EDI模塊的清洗是一個細致且重要的過程，旨在去除模塊內(nèi)部的污垢、沉積物和雜質(zhì)，以恢復(fù)其性能并延長使用壽命。雖然每套制水設(shè)備的有差異，但工藝流程大同小異，EDI模塊清洗流程都是一樣的，下面我們就一起來聊聊。
  
  EDI模塊清洗流程圖
  
  準備階段
  
  確保EDI模塊處于停機狀態(tài)，關(guān)閉整流器輸入輸出電源。記錄清洗前的各項數(shù)據(jù)，包括水壓力值、水流速度、PH數(shù)值、有機物含量、電阻率等，以便清洗后對比。分離EDI膜塊與其他設(shè)備的連接管路，特別是進水、濃水和產(chǎn)水管路。
  
  連接清洗裝置
  
  將清洗泵、清洗水箱和EDI模塊連接起來，形成一個清洗回路。開啟濃水的進出水閥門，關(guān)閉EDI模塊的淡水進水閥和產(chǎn)水閥。
  
  配制清洗溶液
  
  在清洗溶液箱中按配方配制清洗溶液，通常使用鹽酸等清洗劑，配合清水?dāng)嚢杈鶆?。注意清洗劑的濃度和比例需參照產(chǎn)品使用說明書。
  
  開始清洗
  
  啟動清洗泵，調(diào)節(jié)濃水進水閥，以規(guī)定的流量開始循環(huán)清洗。根據(jù)污垢程度和產(chǎn)品說明書，設(shè)定清洗時間，通常為30分鐘至60分鐘。停止清洗泵后，排空清洗水箱中的清洗廢液至地溝或指定處理區(qū)域。
  
  清水沖洗
  
  向清洗水箱中注入清水（RO產(chǎn)水），啟動清洗泵進行連續(xù)沖洗，以去除殘留的清洗劑。通常約為15分鐘至30分鐘，直至出水清澈為止。
  
  恢復(fù)運行
  
  打開EDI模塊的進水閥和產(chǎn)水閥，同時對濃水室和淡水室進行沖洗。檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進水側(cè)電導(dǎo)率相近。調(diào)整各個閥門的參數(shù)，恢復(fù)到初始的數(shù)值和設(shè)計流量數(shù)據(jù)。
  
  具體清洗流程可能因設(shè)備型號、污垢程度和清洗劑種類等因素而有所不同。在實際操作中，具體問題具體分析，如果清洗效果不佳維修是個不錯的恢復(fù)EDI模塊運行效果的方法。EDI維修清洗都可咨詢中科超純的專業(yè)技術(shù)員，10多年EDI維修保養(yǎng)經(jīng)驗。